納糯三維Nanoscribe（推薦指數(shù)：★★★★★）
納糯三維科技（上海）有限公司成立于2017年11月8日，是德國Nanoscribe在中國的全資子公司。德國Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，是卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的衍生公司，現(xiàn)隸屬于LAB14集團，在高精度增材制造領域處于全球地位。
Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無掩模光刻3D打印技術，其Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細結構分辨率高出傳統(tǒng)高精3D打印機100倍的三維微納器件，而全新系列Quantum X平臺系列更是世界上個基于雙光子灰度光刻（2GL?）的工業(yè)級打印系統(tǒng)，納糯三維科技依托母公司的技術優(yōu)勢，在微納制造技術方面處于地位。
無掩膜激光直寫光刻機：
設備特點
1、分辨率高：部分型號分辨率可達0.5μm和0.8μm，采用的激光技術和高數(shù)值孔徑物鏡，能夠實現(xiàn)亞微米甚至納米級別的分辨率，適合制作極其精細的結構。
2、曝光速度快：不同倍率下曝光速度表現(xiàn)出色，如50X時3mm2/min，20X時15mm2/min，10X時60mm2/min，5X時200mm2/min。
3、光源系統(tǒng)可靠：光源為LED，波長可選405nm、365nm和385nm，波長切換方便，曝光能量密度足夠，光強均勻性為3%。
4、操作簡便：由簡單直觀的Windows界面軟件控制，工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作，軟件支持多種文件格式，如Bmp、png、tiff、dxf、gds等。
5、功能實用：具有Focuslock自動對焦功能，可對樣品表面高度進行探測，并通過Z向調整和補償，以保證曝光分辨率。直寫前預檢查軟件可以實時顯微觀測基體表面，并顯示預直寫圖形位置，通過調整位置、角度，保證直寫準確。
【公司定位】作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅和創(chuàng)新者，從科研實驗室到工業(yè)生產現(xiàn)場，Nanoscribe提供高精度增材制造解決方案，顯著簡化制造流程、提升效率與精度。
【主營業(yè)務】微納3D打印、三維微納加工、無掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進封裝、光互聯(lián)納米制造
【應用領域】微光學、微機械、生物醫(yī)學工程、光子學技術
【產品優(yōu)勢】Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無掩模光刻3D打印技術，全新Quantum X系列具有專利雙光子灰度光刻(2GL?)，可實現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結構制造，A2PL?技術支持自動檢測芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預結構化基底上的定位標記，并以納米級對準精度在指定位置直接打印自由曲面光學元件，確保打印結構與光學軸嚴格對齊。
【產品評價】Quantum X align系統(tǒng)代表了新一代對準3D打印技術的發(fā)展方向，可實現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結構制造，并具備自動對準能力，從而支持可靠、低損耗的光子耦合，以及在傳感與成像等應用領域的多樣化需求.
【品牌客戶】哈佛大學，加州理工學院，牛津大學，斯圖加特大學，麻省理工學院等
【技術領域】3D微納加工、雙光子加工
【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe的技術在各項關鍵性突破研究中被提到，出現(xiàn)在2,100多份經(jīng)同行評審的期刊出版物中
產品與服務：
納糯三維科技在中國市場主要推廣Nanoscribe的一系列3D打印設備，如Quantum X align系統(tǒng)等，這些設備可廣泛應用于微光學、微機械、生物醫(yī)學工程、光子學技術等領域。此外，公司還承擔著系統(tǒng)安裝、維護及專業(yè)培訓等本土化服務，為中國客戶提供了的解決方案。
