為了進一步極限化的提高銦錫的收率，進一步簡化工序，提升生產效率，減少環境污染，此次在基于氯化錫具有相對較低沸點的特性的基礎上，設計了“鹽酸浸出—蒸餾分離銦錫—鋅或鋁置換銦—蒸出錫提純制五水氯化錫/蒸出酸回用”的技術方案，并進行了系統的試驗驗證。
ITO（氧化銦錫）靶材是濺射靶材中陶瓷靶材（化合物靶材）的一種，在顯示靶材中占比將近50%。ITO靶材就是將氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合后經過一系列的生產工藝加工成型，再高溫氣氛燒結（1600度，通氧氣燒結）形成的黑灰色陶瓷半導體。
ITO靶材有中低端和高端之分：中低端ITO靶材有玻璃鍍膜靶材、發熱膜和熱反射膜靶材，包括汽車的顯示屏、一些儀器儀表的顯示。高端ITO靶材主要用于顯示器薄膜靶材、集成電路薄膜靶材以及磁記錄和光記錄膜靶材，尤其用于大面積、大規格的LED、OLED等領域，具備高密度、高純度、高均勻性等特點。
從全球ITO靶材需求量來看，據統計，截至2019年全球ITO靶材市場需求量為1680噸，2015-2019年CAGR為5.5%。
